小型台式板式电容PECVD

发布时间:2019-12-12 浏览次数:0

产品介绍

一、PECVD原理:

  化学气象沉积(chemical vapor deposition,简称CVD)是在一定的温度条件下,混合气体之间与基材表面相互作用,并且进一步在基材表面形成金属膜或者化合物薄膜,使材料表面改性,以达到耐磨,抗氧化、抗腐蚀性等性能,在电子,光学,摩擦力学,机械应用方面有很多应用。

 等离子化学气象沉积(plasma enhanced chemical vapor deposition,简称PECVD)也叫做等离子体辅助化学气象沉积(简称PACVD)则是依靠等离子体中得电子的动能去激活气象得化学反应,由于等离子体是离子、电子、中性原子和分子的集合体,因此大量的能量存在于等离子的内能之中。PECVD是冷等离子体,是通过低压气体放电而形成的,一般是在几帕到几百帕的低气压下,通过射频、中频等放电所产生。

 

二、PECVD的特点:

   与常规的热CVD比较,PECVD具有更多的优点

     1、沉积温度低:热CVD的温度一般高于600度,其应用范围非常有限,大部分只能用于实验功能,PECVD的沉积温度可以降到200度以内,这是由于其内能,也就是电子所具备的高能量所提供的。此优点决定了其可以广泛的应用于各种金属、半导体、电子等领域。

     2、沉积速率及均匀性得到提高:PECVD在辉光放电中所用的压力比较低,反应物中分子、原子等离子粒团与电子之间的碰撞、散射、电离等作用增强,膜层厚度的均匀性得到改善,针孔减少,组织致密,内应力少,不易产生微裂纹。

     3、可以获得性能独特的膜层:PECVD的辉光放电处于非平衡状态,及能量耗散状态,其沉积产物呈多样性,可以获得热分解所不能得到的物质,最典型的,热分解甲烷得到石墨薄膜,PECVD则可以得到金刚石薄膜。

 

 三、公司设备特点

1、设备整体尺寸:550mm*550mm*1200mm(宽*深*高)

2、真空室尺寸:直径70*高度110mm

3、平行板电极尺寸:直径60mm

4、电极调节:可调节

5、真空系统:机械泵

6、极限真空度:1*10-3mabr。

7、溅射电源:射频电源5KW

8、工艺匹配:手动匹配

9、气体控制:质量流量控制器 2路

10、真空检测:电阻真空计

11、加热系统:热电阻加热 1.2KW

12、控制方式:手动控制系统

 

 

四、PECVD设备的应用

1、沉积DLC膜层:用与机械、电子、医疗等领域

2、沉积氮化硅:半导体行业、微电子行业

3、沉积TIN膜层:以及TIC等硬质膜层,比离子镀更光亮,更美观

4、纳米炭管:CNTs是PECVD技术的一个新的应用

5、太阳能薄膜电池:非晶硅太阳能电池的制备

商家资料

公司名称 北京维意真空技术应用有限责任公司
公司地址: 北京市大兴区旧桥路25号院
公司电话: 010-67947887
传真: 010-67947887
公司简介: 公司名称(现用名):北京维意真空技术应用有限责任公司 公司名称(曾用名):北京科立方真空技术应用有限公司 覆盖区域:北京、天津、河北 北京维意真空技术应用有限责任公司,原名北京科立方真空技术应用有限公司,创立于2013年,位于中国·首都北京密云经济技术开发区,主体经营分为真空配件销售、真空设备定制、浅蓝纳米科技三个部分,是北京从事真空产品设计、制造、销售、维修、保养于一体的专业性的公司,公司拥有一支专业、优秀的产品技术工程师和维修技术工程师,具有丰富的行业经验,同时还与北京工业大学联合研发等离子体增强化学气相沉积系统,与北京交通大学联合研发原子层沉积系统,满足高校、研究所的教学、科研使用,同时减少相关进口设备的市场占有率,并力争创造外汇,打出中国创造的名牌! 我们的客户遍布北京各高校和研究院所、部分军工单位和电力试验所、各级的材料、物理、化学、纳米等研究领域尖端的实验室,期待您就是我们的下一位客户、朋友! 您的满意微笑是我们一直努力追求的经营目标! 技术创新、业务专业、服务诚信是我们一直遵循的经营理念! 我们热诚欢迎国内外先进的仪器制造商及科学工作者与我们联系开展各层面的合作,打造成一流的真空系统产品、等离子体增强化学气相沉积系统和原子层沉积系统供应商。
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